DRX-95型下降爐主要技術(shù)參數(shù)與性能描述

主要技術(shù)參數(shù)：

性能描述:

1， 觸摸屏+PLC控制;科學(xué)合理、穩(wěn)定可靠的工藝熱場(chǎng)是生長(zhǎng)高質(zhì)量晶體材料的關(guān)鍵條件；

2， 3段加熱分別有歐陸控溫儀控制；

3， 溫度/下降速度/位移等多種工藝參數(shù)/工藝曲線存儲(chǔ)；

4， 溫度梯度設(shè)置范圍:橫向梯度  ≤0.5℃/cm

縱向溫度梯度:5℃--30℃/cm可設(shè)置

5， 密閉環(huán)境下的坩堝下降設(shè)備——采用密閉腔體(真空或氣氛條件)多坩堝下降法晶體生長(zhǎng)技術(shù)，兼顧了密閉環(huán)境(真空或氣氛條件)環(huán)境和坩堝下降法的優(yōu)點(diǎn)，有利于穩(wěn)定熱場(chǎng),確保生長(zhǎng)出高質(zhì)量的晶體，防止原料氧化和水解對(duì)性能的危害，同時(shí)也可防止組分在高溫下的揮發(fā)和泄露，避免環(huán)境污染；

6， 多坩堝公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)專(zhuān)利技術(shù)——保證每只坩堝受熱均勻，溫度一致，晶體質(zhì)量均衡；

7， 節(jié)能環(huán)保——加熱器采用多段式加熱方式，可根據(jù)不同工藝要求精確控制各段加熱器，在消耗最低電能的情況下獲得理想工藝條件下；同時(shí)，采用密閉的工作腔，不但有利于晶體生長(zhǎng)工藝參數(shù)的精準(zhǔn)獲得，有利于工藝氣體的有序流動(dòng)，更有利于廢氣的集中排放和處理。

8， 爐底與坩堝運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)同步升降,在保證坩堝位置精度、運(yùn)動(dòng)精度的同時(shí),方便在設(shè)備底部裝卸料。

9， 爐蓋可以升起旋轉(zhuǎn)開(kāi)，便于安裝、調(diào)整熱場(chǎng)。